Танталовый лист 0,4х130х100 мм ТВЧ в Набережных Челнах

Выбор метода поверхностной обработки танталового листа, такого как травление или полировка, может влиять на его коррозионную стойкость. Химическое травление может пассивировать поверхность, улучшая стойкость. Механическая полировка создает более гладкую поверхность, уменьшая места для начала коррозии, но может вызывать поверхностный наклеп.

Для обеспечения наилучшей герметичности при использовании танталового листа в вакуумных системах предпочтительны сварные соединения. Вакуумная электронно-лучевая или аргонодуговая сварка с тщательной защитой от атмосферных газов гарантирует минимальные поры и высокую герметичность. Применяются также вакуумные фланцевые соединения с медными прокладками.

Танталовые листы, включая марки ТВЧ, ТВ-5 и ТВ-10, проявляют высокую коррозионную стойкость в условиях контакта с бромом и его соединениями. Тантал формирует на поверхности стабильную оксидную пленку, которая защищает его от воздействия галогенов, за исключением фтора и фторид-ионов.

Толщина танталового листа (например, 0.5 мм или 1.0 мм) не оказывает прямого влияния на его предел прочности при растяжении как материальной характеристики. Однако, более толстый лист обеспечивает большую общую несущую способность конструкции, повышая ее сопротивление разрушению под нагрузкой.

Для использования в условиях вакуума при температурах до 1500°C без значительного испарения подходят танталовые листы марки ТВЧ и легированные вольфрамом марки ТВ-10. Тантал имеет очень низкое давление паров при этих температурах, что обеспечивает его стабильность и минимальную потерю массы.

Для циклических нагрузок при высоких температурах лучше подходит танталовый лист марки ТВ-10. Легирование вольфрамом повышает его прочность на ползучесть и усталостную прочность при повышенных температурах по сравнению с чистым танталом марки ТВЧ.

В производстве анодов для электролитических конденсаторов применяются танталовые листы высокой чистоты, прежде всего марки ТВЧ. Его способность к формированию стабильной и тонкой диэлектрической оксидной пленки с высоким пробивным напряжением критична для характеристик конденсатора.